Ethylsilikat CAS 78-10-4 Tetraethylorthosilikat (TEOS)

Strukturformel:

Beschreibung:

Ethylsilikat mit der chemischen Formel Si(OC2H5)4 ist eine farblose und transparente Flüssigkeit. Aufgrund seiner hervorragenden physikalischen und chemischen Eigenschaften wird es in vielen Industriebereichen häufig verwendet. Als multifunktionaler chemischer Rohstoff spielt Ethylsilikat eine wichtige Rolle bei hitzebeständigen und chemikalienbeständigen Beschichtungen, in der Halbleiterherstellung und im Präzisionsguss.

Produkt-Eigenschaften:

Chemische Eigenschaften: Ethylsilikat hat eine hohe Reaktivität und kann exotherm mit Säuren reagieren. Unter Einwirkung starker oxidierender Säuren kann es zu einer exothermen Reaktion kommen, bei der die Reaktionsprodukte entzündet werden. Darüber hinaus kann es auch mit ätzenden Lösungen, Alkalimetallen und Hydriden reagieren und entzündbaren Wasserstoff erzeugen.

Physikalische Eigenschaften: Ethylsilikat hat einen Schmelzpunkt von -77 °C und einen Siedepunkt von 165.5 °C. Es ist schwer löslich in Wasser und leicht löslich in Ethanol und Ether.

Haupteinsatz:

1. Beschichtungen und Beschichtungen: Ethylsilikat wird häufig zur Herstellung wetterbeständiger und chemikalienbeständiger Beschichtungen verwendet. Diese Beschichtungen können nicht nur die Haltbarkeit des Produkts verbessern, sondern bieten auch hervorragende Schutzeigenschaften.

2. Präzisionsguss: Beim Gussverfahren von Legierungen mit hohem Schmelzpunkt und Kupferlegierungen wird Ethylsilikat als Bindemittel im „Wachsausschmelzverfahren“ verwendet, um die Präzision und Qualität der Gussteile effektiv zu verbessern. Darüber hinaus wird es auch zum Gießen von Zahnrestaurationen verwendet.

3. Gebäudeschutz: Als Konservierungsmittel für Stein, Ziegel, Beton und Gips wird Ethylsilikat häufig in Abdichtungs-, Wind- und Säureschutzverfahren verwendet, wodurch die Lebensdauer von Baumaterialien effektiv verlängert werden kann.

4. Herstellung von Elektronik und Halbleitern: Ethylsilikat ist ein wichtiger Vorläufer für die Herstellung von Siliziumdioxidfilmen bei der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und wird als Isoliermaterial und optisches Glasbehandlungsmittel im Halbleiterherstellungsprozess verwendet. Anwendungen in der Halbleiter- und Elektronikindustrie

5. Hitzebeständige und chemikalienbeständige Beschichtungen: Als Grundmaterial für Hochleistungsbeschichtungen wird Ethylsilikat zur Herstellung hitzebeständiger und chemikalienbeständiger Beschichtungen verwendet und wird häufig in Schutzbeschichtungen für Industriegebäude und Gussteile eingesetzt.

6. Silikonsynthese: Ethylsilikat ist einer der wichtigsten Rohstoffe für Silikonlösungsmittel.

Verpackungsspezifikationen: 25 kg/Fass oder 170 kg/Fass oder individuell nach Kundenwunsch

Lagerbedingungen:

Pyrrolidin ist von Industriequalität, ungenießbar, das Einatmen beeinträchtigt das zentrale Nervensystem, Nahrungsmittel verursachen Magen-Darm-Reizungen und Borvergiftungen, während des Betriebs müssen Sie eine Schutzmaske und Gummihandschuhe tragen.

COA, TDS und MSDS erhalten Sie unter [email protected]