4-Akryloylmorfolin CAS 5117-12-4

Strukturell formel: 

produktbeskrivelse:

Eiendommer og bruk:

N-akryloylmorfolin (CAS 5117-12-4) er en funksjonell monomer med akryloyl- og morfolingrupper. Det kan kopolymerisere med andre monomerer for å danne polymerer og materialer med spesifikke egenskaper. Den er egnet for polymermaterialer, vannbehandling, medisin, oljefeltkjemikalier og fotosensitive materialer.

1. Polymermaterialer: N-Akryloylmorfolin kan kopolymeriseres for å danne polymerer med varmebestandighet, kjemisk motstandsdyktighet og utmerkede mekaniske egenskaper, som brukes i produksjon av høyytelsesbelegg, lim og tetningsmidler. Det forbedrer korrosjonsbestandigheten til materialer i belegg og forbedrer vedheftstyrken og holdbarheten i lim.

2. Vannbehandlingsmiddel: Ved fremstilling av omvendt osmose-membraner kopolymeriserer N-Akryloylmorfolin med andre monomerer for å danne membranmaterialer med høy forurensningsbestandighet og kjemisk stabilitet. Disse membranene viser utmerket motstand mot forurensning i industriell vannbehandling og avsalting av sjøvann, noe som bidrar til å forbedre vannbehandlingseffektiviteten og membranens levetid.

3. Medisinsk felt: N-akryloylmorfolin brukes i syntesen av systemer med kontrollert frigjøring av medikamenter og biomedisinske materialer på grunn av dets biokompatibilitet. Den kan brukes som en biologisk nedbrytbar medikamentbærer, som bidrar til å frigjøre legemidler stabilt og forbedre legemiddeleffektiviteten. Polymeren brukes til mikrokuler med kontrollert frigjøring for å optimere medikamentfrigjøringshastigheten og oppnå mer nøyaktig medikamentbehandling.

4. Oljefeltkjemikalier: N-akryloylmorfolin brukes som anti-slamforurensning og viskositetsreduserende middel. Polymeren kan effektivt redusere slamviskositeten under boreoperasjoner og opprettholde kjemisk stabilitet i miljøer med høy temperatur og høyt trykk, og dermed forbedre produksjonseffektiviteten for oljebrønner.

5. Fotosensitive materialer: N-akryloylmorfolin er et nøkkelråmateriale for høyoppløselige fotoresister, som brukes i mikroelektronikkproduksjon og halvlederindustri. Fotoresistene som er laget av den har utmerket kjemisk stabilitet og fine bildeoppløsningsevner, og er egnet for høypresisjonsproduksjon, for eksempel brikkeproduksjon.

Lagringsforhold: Oppbevares på et kjølig, tørt sted, vekk fra direkte sollys.

Innpakning: Dette produktet er pakket i 25 kg fat, og det kan også tilpasses etter kundenes krav