4-Acryloylmorpholine CAS 5117-12-4

Rumus struktural ： 

Deskripsi Produk ：

Properti dan  Penggunaan :

N-Akrylilmorfolin (CAS 5117-12-4) adalah monomer fungsional dengan kelompok akryloyl dan morfolin. Ini dapat berkopolimerisasi dengan monomer lain untuk membentuk polimer dan bahan dengan sifat tertentu. Cocok untuk bahan polymer, pengolahan air, obat-obatan, bahan kimia lapangan minyak, dan bahan fotosensitif.

1. Bahan polimer: N-Akrylomorfolin dapat dikoopolimerisasi untuk membentuk polimer dengan ketahanan terhadap panas, ketahanan kimia, dan sifat mekanis yang sangat baik, yang digunakan dalam produksi lapisan berkinerja tinggi, perekat, dan penyegel. Ini meningkatkan ketahanan korosi bahan dalam lapisan dan memperbaiki kekuatan perekatan serta keawetan dalam perekat.

2. Zat pengolah air: Dalam pembuatan membran osmosis terbalik, N-Akrylomorfolin dikoopolimerisasi dengan monomer lain untuk membentuk bahan membran dengan ketahanan terhadap pencemaran dan stabilitas kimia yang tinggi. Membran ini menunjukkan ketahanan terhadap pencemaran yang sangat baik dalam pengolahan air industri dan desalinasi air laut, yang membantu meningkatkan efisiensi pengolahan air dan umur pemakaian membran.

3. Bidang medis: N-Akryloilmorfolin digunakan dalam sintesis sistem pelepasan obat terkendali dan bahan biomedis karena kemampuan biokompatibelnya. Ini dapat digunakan sebagai pembawa obat yang dapat terurai secara biologis, yang membantu melepaskan obat secara stabil dan meningkatkan efektivitas obat. Polimeranya digunakan untuk mikrobumi pelepasan terkendali guna mengoptimalkan tingkat pelepasan obat dan mencapai pengobatan yang lebih akurat.

4. Kimia lapangan minyak: N-akryloilmorfolin digunakan sebagai anti-kontaminan lumpur dan pengurang viskositas. Polimeranya dapat secara efektif mengurangi viskositas lumpur selama operasi pengeboran dan mempertahankan stabilitas kimia dalam lingkungan suhu tinggi dan tekanan tinggi, sehingga meningkatkan efisiensi produksi sumur minyak.

5. Bahan fotosensitif: N-acryloylmorpholine adalah bahan baku utama untuk resist foto resolusi tinggi, yang digunakan dalam manufaktur mikroelektronik dan industri semikonduktor. Resist foto yang dipersiapkan darinya memiliki stabilitas kimia yang sangat baik dan kemampuan resolusi gambar yang halus, serta cocok untuk manufaktur presisi tinggi, seperti produksi chip.

Kondisi penyimpanan: Simpan di tempat sejuk, kering, jauh dari sinar matahari langsung.

Pengemasan: Produk ini dikemas dalam Barrel 25kg, dan juga dapat disesuaikan sesuai dengan permintaan pelanggan